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 namique-par-nanocalorimetrie-de-la-sequence-de-formation-de-phases-des-sil
 iciures-de-nickel-a-letat-de-couches-mincesnmatthieu-guichard
LOCATION:Université de Montréal - Pavillon Claire-McNicoll\, 2900\, chemi
 n de la Tour\, Montréal\, QC\, Canada\, H3T 1J6
SUMMARY:Étude thermodynamique par nanocalorimétrie de la séquence de for
 mation de phases des siliciures de nickel à l'état de couches minces–M
 atthieu Guichard
DESCRIPTION:Étude thermodynamique par nanocalorimétrie de la séquence de
  formation de phases des siliciures de nickel à l'état de couches minces
 
\nMatthieu Guihard\, Université de Montréal\, Département de physiqu
 e\, 2900\, boul. Édouard-Montpetit\, Montréal\, QC\, H3T 1J4\, Canada
 .
\nLa synthèse des siliciures métalliques est un enjeu majeur de la tec
 hnologie CMOS. Les dimensions critiques de ces siliciures dans les composa
 nts électroniques sont actuellement inférieures à 10 nm et le contrôle
  des paramètres de structure et d’inter-diffusion est crucial. Par exem
 ple\, afin de limiter le budget thermique et réduire la diffusion des dop
 ants\, des techniques de recuit ultra-rapide sont souvent employées.
\nC
 ’est dans ce contexte que nous avons choisi d’étudier la formation de
  phase des siliciures de Ni\, et ce\, à l’aide de la nanocalorimétrie.
  Cette technique permet de mesurer les échanges de chaleur durant la réa
 ction à des taux de chauffage aussi élevés que 10^5 K/s. Elle fournit 
 également une sensibilité suffisante pour examiner des couches métalliq
 ues dont l’épaisseur est inférieure au nanomètre\, livrant ainsi des 
 résultats inédits sur la séquence de formation.
\nPendant la présentat
 ion\, nous décrirons brièvement la nanocalorimétrie ainsi que les défi
 s que nous avons dû relever lors de son utilisation à haute température
 . Par la suite\, nous décrirons nos résultats expérimentaux sur la form
 ation des siliciures de nickel. Nous montrerons que la séquence de phase 
 est modifiée par des taux de chauffage aussi grands\, et qu’on assiste 
 à une compétition entre les réactions de formation de phase et l’aggl
 omération de couches rendues aussi fines.
\nSite web du groupe de M Guiha
 rd
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